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中国电科:离子注入机全谱系产品实现国产化

发布于:2021-03-19 09:04:00 来源:人民网-人民日报

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中国电科:离子注入机全谱系产品实现国产化

《 人民日报海外版 》( 2021年03月19日 第01 版)

据新华社北京3月17日电(记者温竞华)记者17日从中国电子科技集团有限公司获悉,该集团旗下装备子集团已成功实现离子注入机全谱系产品国产化,可为全球芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。

离子注入机是芯片制造中的关键装备。据介绍,中国电科连续突破高性能离子源、高速晶圆传输等“卡脖子”技术,自主研制中束流、大束流、高能、特种应用及第三代半导体等离子注入机,工艺段覆盖至28nm,累计形成核心发明专利413项,实现中国芯片制造领域全谱系离子注入机自主创新发展,有效缓解我国芯片制造领域断链、短链难题。

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